광학 코팅 '진공 스퍼터링'과 '이온 플레이팅' 작업 방식

광학 코팅에서 진공 스퍼터링과 이온 도금은 일반적으로 사용되는 두 가지 물리 기상 증착(PVD) 기술입니다. 둘 다 진공 환경에서 대상 물질의 원자나 분자를 기판에 옮겨 형성합니다. 얇은 필름.

**진공 스퍼터링**:

진공 스퍼터링은 주로 이온 빔(일반적으로 아르곤과 같은 불활성 가스)을 사용하여 타겟 물질에 충격을 가하여 타겟 물질의 원자가 "스퍼터링"되면 이러한 원자는 진공 챔버를 통과하여 기판(예: 광학 부품)에 증착되어 얇은 필름을 형성합니다. 진공 스퍼터링은 고밀도, 우수한 접착력, 균일한 두께의 박막을 제조할 수 있어 광학, 반도체 및 기타 산업 분야에서 널리 사용되고 있습니다.

**이온 도금**:

이온 도금은 보다 복잡한 물리적 기상 증착 기술입니다. 이온 도금에서는 표적 물질을 가열하여 증발시킨 다음 고전압의 작용으로 증발된 원자 또는 분자가 이온화됩니다. 이러한 이온은 가속되어 기판으로 향하여 얇은 필름을 형성합니다. 이온 도금은 고밀도, 저응력, 고내식성을 갖춘 박막을 생산할 수 있으며, 특히 고반사경, 반사방지막 등 고성능 광학필름 제조에 적합합니다.

두 기술 모두 필요한 필름 특성을 달성하려면 진공 환경, 이온 소스의 에너지, 타겟 물질의 온도 등을 제어하는 ​​등 정밀한 제어와 최적화가 필요하다는 점에 유의해야 합니다.